化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition，CVD）是一种通过将反应气体中的前体物质（通常是有机化合物或金属有机化合物）引入反应室，并在高温下使其发生热分解或化学反应，生成反应产物，沉积到基底上形成薄膜。这种方法可以用于制备金属、合金、半导体和陶瓷等材料的加热工业炉。

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